Desempenho de Isolamento de Bases de Cerâmica de Alumina para Equipamentos de Medição de Precisão e Inspeção Industrial

Desempenho de Isolamento de Bases Cerâmicas de Alumina para Equipamentos de Medição de Precisão e Inspeção Industrial

Estas bases de suporte de cerâmica de alumina são fabricadas com material Al₂O₃ de alta pureza de 99,6%, projetadas especificamente para equipamentos de semicondutores, ópticos e de medição de precisão. Apresentando planicidade ultra-alta de 0,01 mm/m e um coeficiente de expansão térmica de 7,2×10⁻⁶/°C, os produtos mantêm uma estabilidade dimensional excepcional em temperaturas extremas (-60°C~1500°C) e ambientes de vácuo (≤10⁻⁸Pa).

Principais Áreas de Aplicação

• Equipamentos de Semicondutores: Estágios de wafer de litografia, bases de câmaras de reatores de gravação

• Óptica de Precisão: Plataformas de referência de interferômetro a laser, suportes de espelhos de telescópios espaciais

• Instrumentos Analíticos: Estágios de amostra de microscópio eletrônico, suportes de fonte de íons de espectrômetro de massa

• Inspeção Industrial: Bases de máquinas CMM, plataformas giratórias de testadores de arredondamento

• Nova Energia: Suportes de pilhas de células de combustível, transportadores de equipamentos de revestimento fotovoltaico

Matriz de Vantagens de Desempenho

Especificações Técnicas

Processo de Fabricação de Precisão

1. Processamento de Pó: Pó de alta pureza de 0,1µm com granulação por spray

2. Processo de Formação: Prensagem isostática (300MPa) combinada com usinagem CNC a verde

3. Tecnologia de Sinterização: Sinterização gradiente a 1700°C em atmosfera de hidrogênio

4. Usinagem de Precisão:

   • Retificação de 5 eixos (±0,002mm)

   • Polimento magnetorreológico (precisão da superfície λ/20@632,8nm)

5. Processamento em Sala Limpa: Montagem concluída em sala limpa Classe 100

6. Inspeção Completa: Interferômetro a laser + CMM inspeção dimensional completa

Diretrizes de Instalação

• Requisitos de Instalação:
  ✓ Use chave de torque (valor recomendado 1,5±0,2N·m)
  ✓ Use ferramentas dedicadas para sala limpa
  ✓ Pré-ajuste de correspondência térmica recomendado (gradiente de temperatura <2°C/min)

• Limitações Ambientais:
  Ⓧ Evite contato com ácido fluorídrico
  Ⓧ Evite choques térmicos >200°C/min
  Ⓧ Não adequado para ambientes oxidantes contínuos >1600°C

Compromisso de Serviço

• Suporte Técnico: Análise de tensão FEA gratuita

• Resposta Rápida: Serviço acelerado de 72 horas

• Gerenciamento de Rastreabilidade: Registros completos de produção de 10 anos

• Suporte de Certificação: Documentos de certificação SEMI/FDA/ISO fornecidos

FAQ

P: Como garantir a correspondência térmica com componentes de carboneto de silício?
R: Design de transição de gradiente CTE disponível (ajustável 7,2-4,5×10⁻⁶/°C)

P: Dimensões máximas processáveis?
R: Limite técnico atual 500×500×100mm (ferramentas especiais necessárias)

P: A modificação condutiva é suportada?
R: Versões antiestáticas personalizáveis com resistência superficial 10⁴-10¹⁰Ω

P: Como a limpeza em nível de wafer é garantida?
R: Esterilização final com VHP (peróxido de hidrogênio vaporizado)